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一、激光直写光刻机的SLM+PLM组合光学架构介绍：
（1）基于高精度DMD的SLM空间光调制激光直写和PLM相位调制
（2）频闪平铺光斑曝光FlashTileBeamLithography(FTBL)
（3）支持500nm分辨率的任意图形和100nm的特征图形光刻
（4）运行效率比传统采用Scanning的激光直写系统提高数倍以上
（5）多写入模式（频闪光斑平铺曝光、灰度曝光、拖曳扫描和矢量扫描）的选择能够针对
二、激光直写光刻机的不同的应用需求优化图形与微结构的性能：
（1）海量数据处理和全尺寸覆盖
（2）z大支持110"数据处理
（3）SLM空间光调制，数据处理速率达30000帧/秒
（4）PLM位相调制，数据处理速率达30000帧/秒可以满足2"-110"基板的直写光刻
三、企业概括：
（1）是一家从事泛半导体与材料科学领域的集实验室和中试线建设的一体化解决方案服务商，致力于提供芯片与微纳系统制造工艺、材料制备与表征、物性与光电测试及芯片失效分析解决方案的综合性工业科技公司。
（2）由海归博士带的团队不断突破行业技术壁垒，打破国外垄断。公司目前已授权软件著作权14项，是规模以上工业企业，科技型中小企业。
（3）矢量科学全自主研发的半导体装备配套用高精度温控系统的温度采集精度高达±0.0001℃，控制精度达±0.002℃，适用于光刻机、镀膜机、刻蚀机等半导体工艺装备样品台温控及工艺环境温控。
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激光直写光刻机微结构的性能